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一种图案形成方法，包含：(a)提供半导体衬底；(b)在所述半导体衬底上形成光致抗蚀剂图案，其中所述光致抗蚀剂图案由光致抗蚀剂组合物形成，所述光致抗蚀剂组合物包含：包含酸不稳定基团的第一聚合物；和光酸产生剂；(c)在所述光致抗蚀剂图案上涂布图...
该专利属于罗门哈斯电子材料有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过罗门哈斯电子材料有限责任公司授权不得商用。

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