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高蚀刻对比度材料为使用具有模板硬质掩膜的预图案化模板结构提供了基础，该模板硬质掩膜具有周期性孔和在该孔内的填充物，其为快速获得由该模板和高蚀刻对比度抗蚀剂引导的高分辨率图案提供了基础。本发明描述用于使用该预图案化模板进行辐射光刻(例如EUV...
该专利属于因普里亚公司所有，仅供学习研究参考，未经过因普里亚公司授权不得商用。

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