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本实用新型公开了一种脉冲激光多光束多靶材共沉积装置包括：设置于真空室内的激光发射器、激光控制器、多个靶材及基板；其中，激光发射器发射指定强度的激光射线，激光控制器接收激光射线，并控制所述激光射线在指定时刻聚焦投射到指定的所述靶材上，以使靶材...
该专利属于深圳市矩阵多元科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市矩阵多元科技有限公司授权不得商用。

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