下载一种常压下曲面基底的原子层沉积薄膜制备设备的技术资料

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本发明属于微纳制造相关设备领域,并公开了一种常压下曲面基底的原子层沉积薄膜制备设备,它包括喷头模块及对应配备的液压传动模块,其中该喷头模块用于对基底进行原子层沉积,具有空间隔离的作用,并且四周的气浮区可以帮助喷头在经过曲面时改变方向达到曲面...
该专利属于华中科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过华中科技大学授权不得商用。

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