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本发明揭示了表面修饰改性三元正极材料的制备方法，包括：将经过预设工艺条件预处理后的三元正极材料放置于充满指定气氛的原子层沉积反应室中；触发升温程序，使所述反应室的温度处于指定温度范围内；将所述反应室抽真空后，在载气作用下向所述反应室内通入有...
该专利属于欣旺达电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过欣旺达电子股份有限公司授权不得商用。

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