温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种阵列基板的制备方法，包括：在基板的表面形成第一多晶硅材料层；对所述第一多晶硅材料层进行离子掺杂，以形成第二多晶硅材料层和位于所述第二多晶硅材料层背离所述基板表面的离子掺杂材料层；对所述第二多晶硅材料层和所述离子掺杂材料层同时进...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。