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本发明适用于半导体技术领域,提供了一种金刚石电子背散射衍射分析样品的制备方法,该方法包括:将金刚石样品进行抛光处理;将抛光处理后的金刚石样品进行氢等离子体处理。本发明通过对金刚石样品抛光处理,使金刚石样品表面平整,通过对金刚石样品进行氢等离...该专利属于中国电子科技集团公司第十三研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国电子科技集团公司第十三研究所授权不得商用。
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