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本实用新型公开了一种清洗带供给装置及系统，属于显示装置制造领域。该装置包括：至少两个供料盘、传递机构、连接机构和供给本体，至少两个供料盘、传递机构和连接机构均设置在供给本体上；每个供料盘上盘绕有清洗带，传递机构用于将设置在传递机构上的清洗带...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司授权不得商用。