温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种低损耗非晶、纳米晶磁片及其制备方法,在频率为100KHz时,其磁导率实部大于1000,磁导率虚部小于200,主要工艺步骤包含脆化、贴合、碎化、钝化、烘干和模切。本发明的优点是利用钝化工艺,可以在非晶、纳米晶碎片的表面生成高电...该专利属于苏州世诺新材料科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州世诺新材料科技有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种低损耗非晶、纳米晶磁片及其制备方法,在频率为100KHz时,其磁导率实部大于1000,磁导率虚部小于200,主要工艺步骤包含脆化、贴合、碎化、钝化、烘干和模切。本发明的优点是利用钝化工艺,可以在非晶、纳米晶碎片的表面生成高电...