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本实用新型涉及一种用于制备低羟基石英玻璃的真空炉,属石英玻璃熔制设备技术领域。该真空炉包括炉体、保温室、石墨加热器和石墨坩埚，炉体内通过固定板固装有保温室，保温室内通过安装件和石墨加热器活动安装有石墨坩埚。该真空炉采用底部加热由下至上逐层化...
该专利属于湖北菲利华石英玻璃股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖北菲利华石英玻璃股份有限公司授权不得商用。

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