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本实用新型公开了一种新型底座足浴盆，包括足浴盆本体，足浴盆本体包括一个底座，所述的底座的外底部成一个矩形结构，底座的外底部注塑有四个与底座连为一体的支撑凸台，四个支撑凸台分布在一个矩形的四个顶点上，支撑凸台的台面上均匀注塑有若干与支撑凸台连...
该专利属于殷焦所有，仅供学习研究参考，未经过殷焦授权不得商用。

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