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本发明涉及材料领域，公开了图案化流体阵列及其制备方法和应用。图案化流体阵列的制备方法，包括：(A)制备具有多个图案化结构单元且具有浸润性质的基底，其中，相邻的两个图案化结构单元之间的距离D与图案化结构单元的尺寸d的比值不小于2；(B)将所述...
该专利属于中国科学院化学研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院化学研究所授权不得商用。

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