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本发明提供了用于使用某些锡化合物作为掺杂剂源进行离子注入的新型方法和系统。基于一个或多个特定属性来选择合适的含锡掺杂剂源材料。其中一些属性包括室温下的稳定性；从其源供应装置递送到离子室的足够的蒸气压，以及产生用于离子注入的合适的束电流以实现...
该专利属于普莱克斯技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过普莱克斯技术有限公司授权不得商用。

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