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一种具有静态负微分电阻特性的太赫兹器件制造技术
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文档序号:19063854
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本发明涉及一种具有静态负微分电阻特性的太赫兹器件,包括绝缘衬底层、二维半导体导电层、绝缘保护层、穿透所述二维半导体导电层的绝缘刻槽、输入电极和输出电极;所述绝缘刻槽包括第一绝缘刻槽和第二绝缘刻槽,所述第一绝缘刻槽和第二绝缘刻槽间隔设置,两者...
该专利属于华南师范大学所有,仅供学习研究参考,未经过华南师范大学授权不得商用。
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