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本申请公开一种阳极靶、射线光源、计算机断层扫描设备。涉及射线处理技术领域,该阳极靶包括:多个靶结构,用于接收由阴极发射出的电子束,以产生射线,所述多个靶点为具有斜面的立体结构;铜冷却体,用于承载所述靶点,所述铜冷却体包括无氧铜冷却体;冷却油...该专利属于同方威视技术股份有限公司;清华大学所有,仅供学习研究参考,未经过同方威视技术股份有限公司;清华大学授权不得商用。
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本申请公开一种阳极靶、射线光源、计算机断层扫描设备。涉及射线处理技术领域,该阳极靶包括:多个靶结构,用于接收由阴极发射出的电子束,以产生射线,所述多个靶点为具有斜面的立体结构;铜冷却体,用于承载所述靶点,所述铜冷却体包括无氧铜冷却体;冷却油...