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本实用新型公开了一种高效率热熔机构，包括机架底座和气缸座，所述机架底座上侧设置有工作台，所述气缸座上侧设置有气缸，所述工作台一侧设置有限位块，所述工作台上侧设置有滑轨，所述滑轨通过滑块和热熔箱连接，所述热熔箱一侧设置有连接座，所述连接座和气...
该专利属于昆山唯斯达电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山唯斯达电子科技有限公司授权不得商用。

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