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本发明提供了一种真空蒸镀装置及其蒸发头、真空蒸镀方法。所述蒸发头包括蒸发头腔体，还包括多个喷射方向不同且喷射方向互不相交的喷嘴，所述多个喷嘴与所述蒸发头腔体连通。发明采用蒸发头具有多个喷嘴，实现了多张需蒸镀基底同时蒸镀的目的。另外，本发明与...
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