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本发明提供一种干刻蚀设备。该干刻蚀设备包括腔体、设于所述腔体内并相对间隔设置的上电极和下电极、设于所述腔体外并与下电极连接的多个运动轴以及设于所述腔体外与多个运动轴均连接的第一调节装置；所述运动轴用于控制下电极上下移动；所述第一调节装置用于...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

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