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本发明公开了一种新型表压传感器及其制作方法，通过在硅基片之上层叠设置膜岛结构，而膜岛结构包括弹性硅膜和设置于弹性硅膜之上的岛区，因此岛区会处于硅片主体的表面，从而免去了传统的设置于硅基片背面的大背岛结构，使得岛区不再受到硅基片的厚度限制，从...该专利属于广东和宇传感器有限公司;上海旦宇传感器科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广东和宇传感器有限公司;上海旦宇传感器科技有限公司授权不得商用。