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本发明公开了一种曝光设备，包括用于承载基板的载物平台和设置于所述载物平台上方的曝光装置，所述载物平台和所述曝光装置被配置为能在第一方向上彼此相对运动，所述曝光装置包括光源单元、图像传感器和控制单元，所述控制单元控制所述图像传感器获取所述基板...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

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