下载产生薄无机膜的方法的技术资料

文档序号:18843329

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本发明属于在基材上产生薄无机膜的方法,特别是原子层沉积法的领域。本发明涉及一种包括使通式(I)化合物变为气态或气溶胶状态并使气态或气溶胶状态的通式(I)化合物沉积在固体基材上的方法,其中M为Mn、Ni或Co,X为与M配位的配体,n为0、1或...
该专利属于巴斯夫欧洲公司所有,仅供学习研究参考,未经过巴斯夫欧洲公司授权不得商用。

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