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本发明公开了一种GaAs基LFET太赫兹红外光探测器和制备方法,该探测器包括吸收区、阻挡区、源漏区、介电区和栅区六个部分,制备方法包括五个步骤,即通过光刻、离子注入、等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)、热蒸发技术在高阻GaAs基底依次...该专利属于中国科学院上海技术物理研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院上海技术物理研究所授权不得商用。
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本发明公开了一种GaAs基LFET太赫兹红外光探测器和制备方法,该探测器包括吸收区、阻挡区、源漏区、介电区和栅区六个部分,制备方法包括五个步骤,即通过光刻、离子注入、等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)、热蒸发技术在高阻GaAs基底依次...