下载利用弯曲应力调控铁氧体单晶薄膜磁性的方法的技术资料

文档序号:18650999

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本发明公开了一种利用弯曲应力调控铁氧体单晶薄膜磁性的方法,主要解决现有技术调控铁氧体磁场强度耗能大的问题。其技术方案是:1.使用脉冲激光沉积方法在氧化镁做牺牲层的钛酸锶衬底上生长铁酸钴薄膜;2.在铁酸钴薄膜表面旋涂聚苯乙烯PS,用硫酸铵溶液...
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