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本发明涉及一种磁控溅射原子层沉积真空镀膜系统，其特征是：包括蒸发室和反应室；所述反应室包括基板转架，在基板转架外侧壁上设置有基板安装位，基板安装位包括对称设置在基板转架外侧壁上的上固定槽和下固定槽；所述磁控溅射蒸发室固定设有靶材承载部，在其...
该专利属于无锡奥芬光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡奥芬光电科技有限公司授权不得商用。

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