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一种氮化铝单晶片电解抛光及化学机械抛光相结合的抛光方法，电解抛光的抛光液由以下原料制成：6%‑7%氨基磺酸、0.5%‑1%草酸、0.5%‑1.5%EDTA、91.5%‑92%去离子水；电解抛光完成后，用石英蜡将氮化铝单晶片粘贴在陶瓷盘上，用...该专利属于中国电子科技集团公司第四十六研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第四十六研究所授权不得商用。
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一种氮化铝单晶片电解抛光及化学机械抛光相结合的抛光方法，电解抛光的抛光液由以下原料制成：6%‑7%氨基磺酸、0.5%‑1%草酸、0.5%‑1.5%EDTA、91.5%‑92%去离子水；电解抛光完成后，用石英蜡将氮化铝单晶片粘贴在陶瓷盘上，用...