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本申请涉及一种膜掩模、该膜掩模的制备方法、使用所述膜掩模的图案形成方法、以及使用所述膜掩模形成的图案，所述膜掩模包括：透明基板；设置在所述透明基板上的暗化光屏蔽图案层；以及在所述透明基板的设置有暗化光屏蔽图案层的表面上设置的浮凸图案部。...
该专利属于株式会社LG化学所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社LG化学授权不得商用。

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