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本实用新型涉及一种耐磨的辅助喷嘴及其制造设备，辅助喷嘴包括喷管（１）和套筒（２），表面有一层含硅类金刚石薄膜，其制造设备由真空部分、真空反应部分、产生等离子体部分以及检测部分四个部分组成，包括真空计（１）、靶（２）、基片（３）、样品台（４）...
该专利属于东华大学所有，仅供学习研究参考，未经过东华大学授权不得商用。

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