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一种制作米量级光栅的系统及方法技术方案
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下载一种制作米量级光栅的系统及方法的技术资料
文档序号:18524588
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本发明属于信息光学领域,涉及一种宽光束扫描曝光系统与方法,为解决制作米级光栅曝光时间过长引起的时效性差以及环境不确定性导致扫描条纹对比度下降问题,采用干涉条纹扫描技术无缝连续拼接光栅;在扫描曝光过程中,运用多维条纹锁定技术,始终以扫描曝光过...
该专利属于苏州大学所有,仅供学习研究参考,未经过苏州大学授权不得商用。
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