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本发明的功率半导体装置100,包括：半导体基体110，在第一半导体层112上层积有第二半导体层114，在第二半导体层114的表面形成有沟槽118，在沟槽118内形成有由外延层构成的第三半导体层116；第一电极126；层间绝缘膜122，具有规...
该专利属于新电元工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过新电元工业株式会社授权不得商用。

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