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本发明涉及用于通过化学浸镀在基板上沉积钯层的水性镀浴组合物和方法。根据本发明的水性镀浴组合物包含钯离子的源、用于钯离子的还原剂和含氰化物基团的芳香族化合物。根据本发明的水性镀浴组合物在将钯的沉积速率保持在期望的满意值的同时，由于所述含氰化物...
该专利属于埃托特克德国有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过埃托特克德国有限公司授权不得商用。

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