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本发明涉及用于通过金属有机气相沉积制备含铟层的方法，其中所述含铟层在反应室中在基板上生成，其中所述铟以具有式InR3的含铟前体化合物的形式递送到工艺，其中基团R彼此独立地选自具有1至6个C原子的烷基基团，其特征在于含铟前体化合物的递送以溶液...
该专利属于优美科股份公司及两合公司所有，仅供学习研究参考，未经过优美科股份公司及两合公司授权不得商用。

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