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气体阻隔性膜及电子器件制造技术
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文档序号:18462864
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本发明的课题是提供气体阻隔性及光学各向异性得到了改善的气体阻隔性膜。该气体阻隔性膜在基材上具有气体阻隔层,上述气体阻隔层至少在厚度方向上沿厚度方向连续地具有5nm以上的混合区域,该混合区域是含有非过渡金属M1及过渡金属M2的区域,上述过渡金...
该专利属于柯尼卡美能达株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过柯尼卡美能达株式会社授权不得商用。
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