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气体阻隔性膜制造技术
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文档序号:18462862
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本发明的课题在于提供一种气体阻隔性优异且即便在高温高湿下耐弯曲性也高的气体阻隔性膜。本发明的气体阻隔性膜的特征在于,在基膜上具备气体阻隔层,上述气体阻隔层含有Si原子、O原子和C原子,基于在上述气体阻隔层的从与上述基膜相反的一侧的表面到上述...
该专利属于柯尼卡美能达株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过柯尼卡美能达株式会社授权不得商用。
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