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本发明提供一种封装结构及其制作方法、阵列基板，该封装结构包括至少一层第一封装层，每层第一封装层包括：衬底层，该衬底层的第一表面经活性化处理；设置在衬底层的第一表面上的单分子层，该单分子层包括硅基单分子碳链和疏水基团，该疏水基团位于硅基单分子...该专利属于重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。