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一种透明4H‑SiC纳米孔阵列的制备方法，其包括以下具体步骤：(1)SiC单晶片依次在丙酮、酒精、去离子水清洗，然后在HF:C2H5OH＝1:1的溶液中浸泡，除去表面氧化物；(2)按HF:C2H5OH:H2O2的比例为3:6:1配制电解液；...
该专利属于宁波工程学院所有，仅供学习研究参考，未经过宁波工程学院授权不得商用。

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