温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明的目的在于提供一种上胶机挤压轮清洁系统,其可以避免人工进入上胶机的机房内进行清洗。根据本发明的一种上胶机挤压轮清洁系统包括储存溶剂的容器、输送溶剂的输送装置、喷头以及刮刀。其中,储存溶剂的容器中的溶剂能溶解所述挤压轮上的胶液;输送溶剂...该专利属于台光电子材料(昆山)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台光电子材料(昆山)有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明的目的在于提供一种上胶机挤压轮清洁系统,其可以避免人工进入上胶机的机房内进行清洗。根据本发明的一种上胶机挤压轮清洁系统包括储存溶剂的容器、输送溶剂的输送装置、喷头以及刮刀。其中,储存溶剂的容器中的溶剂能溶解所述挤压轮上的胶液;输送溶剂...