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本实用新型涉及电路板生产辅助设备技术领域，尤其是一种干膜曝光对位装置，包括固定座，所述固定座上开设有两个相互平行的滑槽，且滑槽的横截面呈倒T形结构，每个所述滑槽内均滑动设有两个曝光钉，所述固定座上设有下干膜和上干膜，所述下干膜和上干膜的四个...
该专利属于常州宇宙星电子制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常州宇宙星电子制造有限公司授权不得商用。

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