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本发明公开了一种单晶炉用碳/碳热场结构产品的快速CVD致密方法，包括如下步骤：（1）组装单晶炉热场，所述单晶炉热场包括石墨料盘、分气工装、保温筒、导流筒、坩埚、导气筒、限气工装；（2）CVD致密化处理；（3）重复步骤（2）工艺，反复致密处理...
该专利属于航天睿特碳材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过航天睿特碳材料有限公司授权不得商用。

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