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本发明公开了一种平面研磨机及其研磨方法，该研磨机包括：一基座；一第一旋转单元，设置在该基座上，该第一旋转单元有一转轴；一下定位盘，连接该转轴；一超音波单元，连接该下定位盘；一第二旋转单元，设置在该基座上；一上定位盘，连接该第二旋转单元，该上...
该专利属于邱瑛杰;邱育诚所有，仅供学习研究参考，未经过邱瑛杰;邱育诚授权不得商用。

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