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本发明公开了一种背面镀膜处理的MWT太阳能电池的制备方法，其特征在于，包括：制备基片，所述基片为已完成PN结扩散工艺、正面沉积有减反射膜、背面制有钝化层及保护膜、完成激光开槽，并已经制备好背面正极、电场、正面电极的硅太阳能电池基片；打孔：在...
该专利属于南京日托光伏科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南京日托光伏科技股份有限公司授权不得商用。

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