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含有Ga的氮化物半导体单晶、其制造方法以及使用该结晶的基片和器件技术
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文档序号:1828221
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本发明涉及一种含Ga氮化物半导体单晶,其特征在于:(a)对含Ga氮化物半导体单晶照射波长450nm的光测定的最大反射率为20%以下,最大反射率和最小反射率之差为10%以内;(b)通过阴极发光法测定的位错密度的最大值和最小值之比(最大值/最小...
该专利属于三菱化学株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三菱化学株式会社授权不得商用。
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