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电介质薄膜、电容元件及电子部件制造技术
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文档序号:18176230
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本发明提供一种即使将金属氧氮化物中含有的氮量控制为很低,也可以兼备高相对介电常数和高绝缘性的电介质薄膜。该电介质薄膜由具有钙钛矿结构的电介质组合物构成,电介质组合物具有由化学式MazMbOxNy(Ma为选自Sr、Ba、Ca、La、Ce、Pr...
该专利属于TDK株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过TDK株式会社授权不得商用。
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