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本发明提供一种能够在膜面方向（膜面内）稳定地形成成分均匀性优异的薄膜的Ａｇ－Ｔａ－Ｃｕ合金溅射靶。该溅射靶由Ｔａ含量为０．６～１０．５原子％、Ｃｕ含量为２～１３原子％的Ａｇ基合金构成，对溅射靶的溅射面进行图像分析时，（１）相对于Ｔａ粒子的整...
该专利属于株式会社钢臂功科研所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社钢臂功科研授权不得商用。

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