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本发明提供了一种可提高ＣＶＤ工艺稳定性的方法，其在ＣＶＤ工艺完成后／开始前时进行，且在相应的ＣＶＤ设备中进行，该ＣＶＤ设备通过ＭＦＣ控制反应气体进入其反应腔，该ＭＦＣ与反应腔间至少设置有一截止阀，该ＭＦＣ具有内部阀门，该内部阀门在反应气体流...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

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