温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种化学机械抛光设备和化学机械抛光方法。该化学机械抛光设备包括：抛光垫整修器盘和清洗装置，该清洗装置包括：清洗盘；预抛光垫，设置在该清洗盘中，用于与抛光垫整修器盘接触时进行预抛光操作；预抛光研磨液供给单元，设置在清洗盘侧边处，用...该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。