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本发明是采用电磁控阴极电弧源的镀渗设备，属于真空镀膜、离子镀膜、离子渗金属领域。其技术特征在于控制电磁线圈的排布方式，在放电过程中不断改变线圈电流的方向和大小。在靶面产生的轴向磁场分量和径向磁场分量在靶材径向不断变化，使场致发射式阴极电弧在...
该专利属于北京联合大学机械工程学院所有，仅供学习研究参考，未经过北京联合大学机械工程学院授权不得商用。

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