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用等离子体CVD涂敷或处理衬底的方法及装置制造方法及图纸
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文档序号:1810611
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一种等离子体CVD方法,其中,能沉积涂层材料的反应气体流过待涂敷表面,气体在装置中通过两微波输入件(7,8)馈入的微波激化成带状等离子体,该装置包括端壁(2,3)及一正方形截面的波导管(1),微波与等离子体耦合是用波导管棱边上的隙缝(6)实...
该专利属于肖特玻璃制造厂所有,仅供学习研究参考,未经过肖特玻璃制造厂授权不得商用。
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