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本发明蚀刻液组合物包含过氧化氢、蚀刻抑制剂、螯合剂、蚀刻添加剂、氟化物、稳定剂以及水，通过调整各组分在该蚀刻液组合物中的质量占比以提高该蚀刻液组合物蚀刻的均一性，从而可以避免蚀刻锥角、蚀刻偏差及蚀刻直线度等特性失去，进而提高产品品质。...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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