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本发明涉及一种配置气体离子源的真空离子镀膜机，属于真空离子镀膜技术领域。本镀膜机至少包括一个真空室和其中的一套导电工件（转）架和一台气体离子源，以及一台直流或者一台脉冲直流电源；电源通过三组开关分别为导电工件（转）架建立负偏压及驱动该气体离...
该专利属于北京丹鹏表面技术研究中心所有，仅供学习研究参考，未经过北京丹鹏表面技术研究中心授权不得商用。

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