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本实用新型提供一种掩模版冷却装置以及光刻机台。所述掩模版冷却装置包括采集单元、冷却单元以及控制单元，所述控制单元分别与所述采集单元和所述冷却单元通讯连接，所述采集单元用于获取曝光过程中掩模版上具有曝光区域的表面的温度信息并反馈给控制单元，所...
该专利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备（集团）股份有限公司授权不得商用。

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